| 见识一下世界上第一块450毫米晶圆 |
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| (2013-1-20 9:45:28) 1605人次浏览 |
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来见识见识世界上第一块450毫米晶圆吧！
关注半导体制造工艺进展的朋友应该都听说过450毫米晶圆。
它的使命是接替现在的300毫米晶圆，推动半导体工艺的深入进步，但因为技术难度实在太高，新晶圆提了很多年了却一直没有成型。
在本周的SEMI产业策略研讨会上，Intel终于让我们第一次看到了450毫米晶圆的实物，而且是完整印刷过的成品，堪称一个里程碑式的时刻。
Intel表示，这是其与多家产业供应商紧密合作的成果，包括Sumco（日本半导体大厂）、大日本印刷公司（Dai Nippon Printing）、Molecular Imprints（美国光刻大厂）等等。
Intel的发言人Chuck Mulloy指出：“这是重要的一步。很快就会有大批量的印刷测试晶圆用于让供应商开发它们的450毫米工具”。
不过谁也没透露这块大号晶圆的技术细节。 （看大图：→浏览下载）
有报道称，Molecular Imprints的“Jet and Flash”（J-Fil）压印光刻技术已经展示了可用于24nm印刷，线边缘粗糙度不到2nm 3sigma（合格率99.73%），临界尺寸一致性也达到了1.2nm 3sigma，而且只需一步就能完成10nm印刷。
Intel会在今年开始动工建设全球第一座450毫米晶圆专用工厂，预计投资约20亿美元。
图一、传说中的450毫米晶圆（测试芯片内核面积好大）（文章插图看大图：→浏览下载）
图二、Intel技术制造工程副总裁Bob Bruck（左）
与Intel Mario Abravanel（右）共同揭开450毫米晶圆的神秘面纱
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